點(diǎn)擊圖片查看大圖HX-GZKDM100高真空鍍膜指紋顯現(xiàn)系統(tǒng) 價(jià)格：500000.00
HX-GZKDM100高真空鍍膜指紋顯現(xiàn)系統(tǒng),是我公司研制的新產(chǎn)品。系統(tǒng)能在極高真空環(huán)境中,采用低電壓，大電流的電弧放電技術(shù)，應(yīng)用氣體放電使靶材蒸發(fā),使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，同時(shí),利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)的物質(zhì)和反應(yīng)產(chǎn)生的沉積物吸附在客體上。由于蒸發(fā)的靶材特性各異以及遺留在客體表面的沉積物狀況的不同，使得指紋(手印)紋線和客體背景之間形成反差,從而達(dá)到指紋(手印)指紋的理想顯現(xiàn)目的。
應(yīng) 用
采用高真空鍍膜技術(shù)顯現(xiàn)手印指紋,適用性廣,極大地提高了顯現(xiàn)率,對(duì)大部分非滲透性
HX-GZKDM100高真空鍍膜指紋顯現(xiàn)系統(tǒng),是我公司研制的新產(chǎn)品。系統(tǒng)能在極高真空環(huán)境中,采用低電壓，大電流的電弧放電技術(shù)，應(yīng)用氣體放電使靶材蒸發(fā),使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，同時(shí),利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)的物質(zhì)和反應(yīng)產(chǎn)生的沉積物吸附在客體上。由于蒸發(fā)的靶材特性各異以及遺留在客體表面的沉積物狀況的不同，使得指紋(手印)紋線和客體背景之間形成反差,從而達(dá)到指紋(手印)指紋的理想顯現(xiàn)目的。
應(yīng) 用
采用高真空鍍膜技術(shù)顯現(xiàn)手印指紋,適用性廣,極大地提高了顯現(xiàn)率,對(duì)大部分非滲透性
、半滲透性客體都適用。如光面皮革
、塑料
、絲綢、布料
、陶瓷油漆面
、電鍍面、玻璃
、紙張
、照片等，對(duì)陳舊手印
、浸水指紋以及油脂手印
、汗混合指紋、血潛指紋等疑難客體上手印的顯現(xiàn),更有其他方法無(wú)法替代的優(yōu)勢(shì)
，且在使用其他傳統(tǒng)方法顯現(xiàn)無(wú)果后
，仍可采用真空鍍膜顯現(xiàn)獲取。特別是經(jīng)鍍膜顯現(xiàn)的指紋不影響后續(xù)的DNA提取, 是刑偵部門理想的勘察設(shè)備之一
。
特 點(diǎn)
1.立柜式一體化設(shè)計(jì):無(wú)外置部件, 結(jié)構(gòu)緊湊, 就位后即可運(yùn)行
特 點(diǎn)
1.立柜式一體化設(shè)計(jì):無(wú)外置部件, 結(jié)構(gòu)緊湊, 就位后即可運(yùn)行
。
2.人性化設(shè)計(jì): 系統(tǒng)采用10英寸嵌入式大屏彩色液晶智能觸摸屏及工業(yè)級(jí)微機(jī), 全中文引導(dǎo)菜單, 運(yùn)行速度更快, 存儲(chǔ)數(shù)據(jù)強(qiáng)大, 各數(shù)據(jù)顯示簡(jiǎn)明快捷,實(shí)現(xiàn)了人機(jī)對(duì)話及系統(tǒng)工作狀態(tài)顯示。
3.真空室:為圓柱型,符合高真空受力均勻,壓強(qiáng)小的原理,確保超高真空度和經(jīng)久耐用
2.人性化設(shè)計(jì): 系統(tǒng)采用10英寸嵌入式大屏彩色液晶智能觸摸屏及工業(yè)級(jí)微機(jī), 全中文引導(dǎo)菜單, 運(yùn)行速度更快, 存儲(chǔ)數(shù)據(jù)強(qiáng)大, 各數(shù)據(jù)顯示簡(jiǎn)明快捷,實(shí)現(xiàn)了人機(jī)對(duì)話及系統(tǒng)工作狀態(tài)顯示。
3.真空室:為圓柱型,符合高真空受力均勻,壓強(qiáng)小的原理,確保超高真空度和經(jīng)久耐用
。采用優(yōu)質(zhì)304不銹鋼制作,內(nèi)表面作拋光處理
。超大視窗,內(nèi)置LED照明系統(tǒng),能實(shí)時(shí)清晰觀察顯現(xiàn)全過(guò)程狀況
。
4.真空室物證載物臺(tái): 采用道軌滑輪抽垃式弧面形狀, 方便取放檢材, 對(duì)特殊檢材配有可拆卸掛件及可擴(kuò)、縮口徑的旋轉(zhuǎn)載物柱,其轉(zhuǎn)速與蒸發(fā)電離頻率吻合,鍍膜更均勻, 顯現(xiàn)更清晰
4.真空室物證載物臺(tái): 采用道軌滑輪抽垃式弧面形狀, 方便取放檢材, 對(duì)特殊檢材配有可拆卸掛件及可擴(kuò)、縮口徑的旋轉(zhuǎn)載物柱,其轉(zhuǎn)速與蒸發(fā)電離頻率吻合,鍍膜更均勻, 顯現(xiàn)更清晰
。
5.配置三組蒸發(fā)源:在一次抽真空的狀況下
5.配置三組蒸發(fā)源:在一次抽真空的狀況下
，可進(jìn)行多次鍍膜，并自動(dòng)調(diào)整對(duì)應(yīng)的真空度和蒸發(fā)電流, 以滿足理想鍍膜要素, 確保指印清晰顯現(xiàn)。
6.采用科學(xué)合理的抽真空系統(tǒng):使真空室內(nèi)的最高真空度可達(dá)9X10-4Pa(9X10-7 mbar) 。
7.配備高性能復(fù)合真空計(jì): 能精準(zhǔn)測(cè)量真空室內(nèi)的真空度,確保真空度準(zhǔn)確可靠,滿足良好顯現(xiàn)條件。
8.電子控制系統(tǒng):具備真空抽氣、蒸發(fā)電流、載物轉(zhuǎn)臺(tái)、充放氣閥、水壓不足、突發(fā)斷電、操作失誤等保護(hù)裝置。經(jīng)PLC及真空測(cè)量實(shí)現(xiàn)順序操作, 具有連鎖保護(hù)功能和全自動(dòng)功能。
9.快速鍍膜: 單次真空鍍膜全過(guò)程 (含抽真空和鍍膜時(shí)間) ≤10分鐘(提高顯現(xiàn)率20%-70%)。
10.廣泛的靶材選擇: 可蒸發(fā)金、銀、銅、鋅、鋁、鎳、銦等金屬及合金(根據(jù)需要選擇)。
11.操作模式: 自動(dòng) 半自動(dòng) 手動(dòng)。
12.具備內(nèi)置式循環(huán)冷卻功能。
13.具備鑰匙和秘碼輸入雙模式開(kāi)機(jī): 有效防止他人誤操作。
14.具備網(wǎng)絡(luò)和USB接口:后期能進(jìn)行軟件升級(jí)，遙控操作及運(yùn)行數(shù)據(jù) 導(dǎo)引。
15.具備故障報(bào)警功能: 任何故障, 均有聲、光自動(dòng)報(bào)警。
16.具備斷電應(yīng)急功能: 如發(fā)生斷電, 可手動(dòng)破真, 取出檢材。
技 術(shù) 參 數(shù)
1.外形尺寸:750x900X1600mm(寬X深X高)
2.真空室尺寸:Ф480x550mm, 容積:100升
3.超大視窗: Ф500mm
4.嵌入式大屏彩色液晶智能觸摸屏:10英寸
5. 孤形載物臺(tái)面積: 860x500mm
6.極限真空度: 9X10-4Pa(9X10-7 mbar)
7.恢復(fù)真空抽氣時(shí)間：從大氣抽至5×10-3Pa≤5min,優(yōu)于滿鍍金真空度
8.鍍膜顯現(xiàn)時(shí)間: 單次真空鍍膜全過(guò)程 (含抽真空時(shí)間) ≤10分鐘。
9.不影響后期DNA提取:真空鍍膜顯現(xiàn)后的指紋, 仍可提取DNA。
10.物證顯現(xiàn)面積: 最大820x400mm(長(zhǎng)X寬)
11.三組蒸發(fā)源: 分別可蒸發(fā)金、鋅
6.采用科學(xué)合理的抽真空系統(tǒng):使真空室內(nèi)的最高真空度可達(dá)9X10-4Pa(9X10-7 mbar) 。
7.配備高性能復(fù)合真空計(jì): 能精準(zhǔn)測(cè)量真空室內(nèi)的真空度,確保真空度準(zhǔn)確可靠,滿足良好顯現(xiàn)條件。
8.電子控制系統(tǒng):具備真空抽氣、蒸發(fā)電流、載物轉(zhuǎn)臺(tái)、充放氣閥、水壓不足、突發(fā)斷電、操作失誤等保護(hù)裝置。經(jīng)PLC及真空測(cè)量實(shí)現(xiàn)順序操作, 具有連鎖保護(hù)功能和全自動(dòng)功能。
9.快速鍍膜: 單次真空鍍膜全過(guò)程 (含抽真空和鍍膜時(shí)間) ≤10分鐘(提高顯現(xiàn)率20%-70%)。
10.廣泛的靶材選擇: 可蒸發(fā)金、銀、銅、鋅、鋁、鎳、銦等金屬及合金(根據(jù)需要選擇)。
11.操作模式: 自動(dòng) 半自動(dòng) 手動(dòng)。
12.具備內(nèi)置式循環(huán)冷卻功能。
13.具備鑰匙和秘碼輸入雙模式開(kāi)機(jī): 有效防止他人誤操作。
14.具備網(wǎng)絡(luò)和USB接口:后期能進(jìn)行軟件升級(jí)，遙控操作及運(yùn)行數(shù)據(jù) 導(dǎo)引。
15.具備故障報(bào)警功能: 任何故障, 均有聲、光自動(dòng)報(bào)警。
16.具備斷電應(yīng)急功能: 如發(fā)生斷電, 可手動(dòng)破真, 取出檢材。
技 術(shù) 參 數(shù)
1.外形尺寸:750x900X1600mm(寬X深X高)
2.真空室尺寸:Ф480x550mm, 容積:100升
3.超大視窗: Ф500mm
4.嵌入式大屏彩色液晶智能觸摸屏:10英寸
5. 孤形載物臺(tái)面積: 860x500mm
6.極限真空度: 9X10-4Pa(9X10-7 mbar)
7.恢復(fù)真空抽氣時(shí)間：從大氣抽至5×10-3Pa≤5min,優(yōu)于滿鍍金真空度
8.鍍膜顯現(xiàn)時(shí)間: 單次真空鍍膜全過(guò)程 (含抽真空時(shí)間) ≤10分鐘。
9.不影響后期DNA提取:真空鍍膜顯現(xiàn)后的指紋, 仍可提取DNA。
10.物證顯現(xiàn)面積: 最大820x400mm(長(zhǎng)X寬)
11.三組蒸發(fā)源: 分別可蒸發(fā)金、鋅
、鋁、銅
、鎳等金屬靶材
。
12.道軌抽拉式物證載臺(tái)及物證載物支架:旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)
12.道軌抽拉式物證載臺(tái)及物證載物支架:旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)
。
13.二級(jí)機(jī)械泵和復(fù)合分子泵抽真空系統(tǒng)
14.內(nèi)置式水冷循環(huán)和風(fēng)冷系統(tǒng)
15.操作模式: 全自動(dòng) 半自動(dòng) 手動(dòng)
16.工作電壓: 220V/50Hz 總功率:6KV
17.總重量:500kg
13.二級(jí)機(jī)械泵和復(fù)合分子泵抽真空系統(tǒng)
14.內(nèi)置式水冷循環(huán)和風(fēng)冷系統(tǒng)
15.操作模式: 全自動(dòng) 半自動(dòng) 手動(dòng)
16.工作電壓: 220V/50Hz 總功率:6KV
17.總重量:500kg